光明日报重庆5月14日电（记者张国圣通讯员李东）记者从重庆市大足区获悉，采用1∶1高精度3D打印技术复刻的大足石刻造像精品，已于近日启运前往美国，将于6月至8月在纽约深刻博物馆举办“东方和美——世界遗产大足石刻生活与叙事展”。这也是大足石刻首次以数字技术与实物展陈深度融合的形式，大规模亮相美国主流文化场馆。

　　大足石刻是世界文化遗产，其核心造像大多镌刻于天然崖壁之上，按文物保护要求无法移动展出。大足石刻研究院副院长艾智科介绍，本次赴美展品均运用高精度三维扫描与3D打印技术制作，不仅1∶1还原了石刻整体形制，而且精准再现了造像的衣纹褶皱、面部神情乃至岩石肌理等艺术细节，让镌刻在悬崖峭壁上的千年文物真正“走下了悬崖、走出了石窟”。

　　据了解，展陈面积达600平方米，将紧扣“东方和美”主题打造“数字赋能+实物观赏+互动体验”多元展陈模式。现场除展出多组大足石刻代表性造像的高精度复刻品，还将通过高清影像资料与沉浸式数字体验装置，全方位展现大足石刻作为晚期石窟艺术巅峰的独特价值，以及其中蕴含的中华和合文化内涵。

　　展览期间还将举办学术研讨会、文旅推介会等系列活动。

　　《光明日报》（2026年05月15日 09版）